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供暖鍋爐安全閥壓力值 為各大企業(yè)熱水供應(yīng)提供保障

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煤層氣的產(chǎn)出要經(jīng)過排水―降壓―解吸—擴散—滲流—產(chǎn)出的過程,因此伴隨著煤層氣生產(chǎn)井的日常開采,有大量的生產(chǎn)水產(chǎn)出[1].產(chǎn)出水主要來自煤層及其圍巖,在漫長的地質(zhì)歷史時期及地下水系統(tǒng)的循環(huán)過程中,煤層水常與煤層及其圍巖進行各種物理化學(xué)作用,產(chǎn)出水中的可溶性二氧化硅含量及動態(tài)變化可以反映地下水的封存、補給狀況及圍巖的礦物組成[2],高含量的二氧化硅可提示產(chǎn)生硅酸鹽垢造成井下堵塞、卡泵的風(fēng)險[3].因此,日常監(jiān)測煤層氣井產(chǎn)水中可溶性二氧化硅非常重要.煤層氣井產(chǎn)水中可溶性硅的質(zhì)量濃度一般為1~20mg·L-1,目前行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)MT/T255-2000《煤礦水中可溶性二氧化硅的測定方法》及國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T12149-2007《工業(yè)循環(huán)冷卻水和供暖鍋爐安全閥壓力值用水中硅的測定》中測定可溶性二氧化硅均采用硅鉬藍(lán)分光光度法,其測定范圍無法覆蓋樣品的含量范圍.因此,測定時樣品往往需要稀釋,這造成操作的繁瑣及準(zhǔn)確度的下降,同時,分光光度法涉及大量手工操作,費時、費力、分析速率慢,難以滿足煤層氣井產(chǎn)水的批量分析,手工操作的不確定性也影響到分析結(jié)果的準(zhǔn)確性.近年來,已有一些行業(yè)探索將流動注射技術(shù)與分光光度法結(jié)合,用于測定可溶性硅[4-7],但是未有用于煤層氣井產(chǎn)水分析的報道。

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第一步:除垢清洗,在清洗槽循環(huán)水內(nèi)按份額參加裝備好的除垢清洗劑,進行供暖鍋爐安全閥壓力值清洗除垢,根據(jù)垢量多少確定清洗循環(huán)的時刻和參加藥劑多少,確認(rèn)悉數(shù)垢質(zhì)清洗下來之后轉(zhuǎn)入下一步清洗程序。

結(jié)論:

關(guān)于河南方快鍋爐廠家:。冷凝鍋爐能運用于企業(yè)單位、酒店、部隊、車站、機場、工廠、醫(yī)院、學(xué)校等場合。煤層氣的產(chǎn)出要經(jīng)過排水―降壓―解吸—擴散—滲流—產(chǎn)出的過程,因此伴隨著煤層氣生產(chǎn)井的日常開采,有大量的生產(chǎn)水產(chǎn)出[1].產(chǎn)出水主要來自煤層及其圍巖,在漫長的地質(zhì)歷史時期及地下水系統(tǒng)的循環(huán)過程中,煤層水常與煤層及其圍巖進行各種物理化學(xué)作用,產(chǎn)出水中的可溶性二氧化硅含量及動態(tài)變化可以反映地下水的封存、補給狀況及圍巖的礦物組成[2],高含量的二氧化硅可提示產(chǎn)生硅酸鹽垢造成井下堵塞、卡泵的風(fēng)險[3].因此,日常監(jiān)測煤層氣井產(chǎn)水中可溶性二氧化硅非常重要.煤層氣井產(chǎn)水中可溶性硅的質(zhì)量濃度一般為1~20mg·L-1,目前行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)MT/T255-2000《煤礦水中可溶性二氧化硅的測定方法》及國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T12149-2007《工業(yè)循環(huán)冷卻水和鍋爐用水中硅的測定》中測定可溶性二氧化硅均采用硅鉬藍(lán)分光光度法,其測定范圍無法覆蓋樣品的含量范圍.因此,測定時樣品往往需要稀釋,這造成操作的繁瑣及準(zhǔn)確度的下降,同時,分光光度法涉及大量手工操作,費時、費力、分析速率慢,難以滿足煤層氣井產(chǎn)水的批量分析,手工操作的不確定性也影響到分析結(jié)果的準(zhǔn)確性.近年來,已有一些行業(yè)探索將流動注射技術(shù)與分光光度法結(jié)合,用于測定可溶性硅[4-7],但是未有用于煤層氣井產(chǎn)水分析的報道。介紹了Shell氣化爐爐溫控制指標(biāo),分析了各項爐溫控制指標(biāo)的優(yōu)缺點,通過篩選對比,選擇熱負(fù)荷作為氣化爐爐溫新的控制指標(biāo),利用現(xiàn)有的Deltav控制系統(tǒng),簡化了熱負(fù)荷的計算結(jié)果.熱負(fù)荷控制和常規(guī)的蒸汽產(chǎn)量控制爐溫的對比結(jié)果表明,選擇熱負(fù)荷作為氣化爐爐溫控制指標(biāo),不受氣化爐負(fù)荷、鍋爐給水溫度、爐水溫度、汽包壓力等影響,能夠平穩(wěn)快速的反映氣化爐爐溫,有利于將氣化爐溫度控制在合理的范圍之內(nèi)。

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